Wir freuen uns auf die Zusammenarbeit und beraten Sie gern.

Ihre Anfrage

Sie haben Interesse an diesem Download? Bitte füllen Sie das Formular aus. Gern rufen wir Sie an, wenn Sie uns eine Telefonnummer hinterlassen.







    Ich bin mit der Verarbeitung und Nutzung meiner
    Daten gemäß der Datenschutzerklärung der HZDR Innovation GmbH einverstanden.


    Hochenergie-Ionenimplantation

    Für das Geschäftsfeld Ionentechnologie nutzen wir die Anlagen des Ionenstrahlzentrums am HZDR. Die langjährige Expertise auf dem Gebiet der Ionentechnologie, moderne und leistungsfähige Maschinen sowie hochqualifiziertes Personal ermöglichen eine zügige Prozessierung von Standardimplantationen unter Einhaltung hoher Qualitätsstandards. Zu unseren Stärken zählen der weite Ionen-Energiebereich, eine große Auswahl verfügbarer Ionenspezies und die Erfüllung von komplexen Spezialaufträgen.

    ionenimplantation-header

    Langjährige Expertise in der Ionenimplantation

    Zur Durchführung von Hochenergie-Ionenimplantation nutzen wir Europas größtes und modernstes Ionenstrahlzentrum (IBC) am Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf. Die Zusammenarbeit mit dem IBC am HZDR ermöglicht uns den Zugang zu leistungsfähigen Maschinen in Kombination mit einem hochqualifizierten Operatoren-Team. Die Symbiose aus wissenschaftlicher und industrieller Nutzung der Anlagen sorgt für eine kontinuierliche Modernisierung und Verbesserung der Anlagen bei gleichbleibender Betriebssicherheit und hohen Qualitätsanforderungen. Unsere langjährige Erfahrung auf dem Gebiet der Ionenimplantation sorgt dafür, dass auch komplexe Anfragen in enger Zusammenarbeit mit dem Auftraggeber auf ihre Machbarkeit geprüft und durchgeführt werden können.

    Zertifikat DIN EN ISO 9001 (103,00 kB)
    ionen-chip-red
    icon_teaser_services_red

    Was wir anbieten

    Die von uns verwendeten Anlagen arbeiten in einem breiten Energiebereich und decken neben den typischen Standardenergien auch die Hochenergie-Ionenimplantation ab. Spezialisierte Ionenquellen erlauben eine große Auswahl verfügbarer Ionenspezies, die einen großen Teil des Periodensystems der Elemente abdeckt. Die Überlappung der Energiebereiche zwischen den unterschiedlichen Maschinen schafft eine Standby-Redundanz, sodass im Bedarfsfall laufende Prozesse auf eine andere Maschine übertragen werden können.

    content-ionenimplanter

    Halbautomatisiertes Waferhandling

    In Abhängigkeit von der Geometrie und den Eigenschaften der Wafer ist ein manuelles oder halbautomatisches Waferhandling verfügbar. Das manuelle Handling ist im Besonderen für dünne und fragile Wafer geeignet. Das Kassetten-basierte System erlaubt unserem geschulten Personal die Prozessierung von kleinen Proben und Bauteilen bis hin zu 200 mm Wafern. Das Handling von Standardwafern mit hohem Durchsatz übernimmt ein Handlingsroboter. Die Prozessierung der Wafer erfolgt in Reinraum-Umgebungen der Klassen ISO 5 und ISO 6.

    ionenimplantation-adenso-waferhandler
    icon_teaser_anwendung_red

    Unser Leistungsspektrum

    • Spezies: 1H bis 197Au
    • Beschleunigungsspannungen: 10 kV bis 6 MV
    • Ionenquellen: Sputterquellen, Gasquellen, Verdampfungsquellen
    • Wafergrößen: bis 200 mm
    • Waferhandling: manuell oder halbautomatisch
    • Reinraum-Umgebung: Klassen ISO 5 und ISO 6

    icon_teaser_contact_white

    Ihr Ansprechpartner

    Dr. Roman Böttger

    Direktor Ionentechnologie

    Tel.: +49 351 260 2873

    r.boettger@hzdri.de