高能电子辐照缺陷工程
在缺陷工程领域，电子辐照在定制化制造材料缺陷方面发挥着关键作用。高能电子（能量：10 MeV）在与晶格原子相互作用时，可精确诱导空位和间隙原子的产生。得益于高能量，这些效应以级联式方式发生，从而能够高效且显著地改变材料结构。该方法对于优化功率半导体器件及其他高科技材料的性能具有不可替代的作用。
功率半导体与聚合物的高科技解决方案
高能电子辐照是实现材料定制化改性的主要工艺之一。与许多其他工艺不同，这种电子束处理可在常压大气条件下或充入保护气的情况下进行。这使得该工艺特别高效，因为基材无需在真空环境下进行复杂的操作。批量处理模式还能够实现高产量和低成本的生产。
该技术的应用范围广泛，涵盖从优化功率半导体或光伏领域所用半导体材料的电学性能，到聚合物材料的交联处理。借助这项创新的辐射技术，可以精确调节材料性能，从而提升产品的性能和使用寿命。
电子束设施的设备与功能
电子辐照设施的基本设计由三个关键组件构成：加速器、束流扫描系统以及用于精确处理基片的线性传输系统。这些组件对于工艺控制和可重复性至关重要。
待处理材料以预设速度在线性扫描的电子束下方输送，通过调节电子束流强并结合选定的输送速度，即可确定辐照剂量。电子束能量固定为单能10 MeV。如有需要，可通过使用散射箔降低能量，但这会导致能量分布变宽。因此，该系统兼具精度与灵活性，可根据您的具体应用需求进行定制化调整。
衬底处理与功能材料改性
电子辐照过程中的衬底处理旨在实现最高效率。硅片等材料会被堆叠在专用托架中，然后放入辐照箱内。根据晶圆尺寸的不同，甚至可以在单个辐照箱内同时处理多个堆叠。
得益于高能量，电子能够均匀地穿透整个衬底堆栈。这不仅实现了高吞吐量，还保证了逐层处理的一致性，从而确保了高效且可靠的材料改性。
高效的基板处理与工艺控制
该设施的线性输送系统旨在最大限度地提高吞吐量：该系统允许将多个辐照箱放置在单个托盘上，随后该托盘以精确的速度在电子束扫描线下方进行输送。预设的输送速度，精确控制的照射时间以及束流，共同决定了施加到材料上的电子束剂量。
对于需要更高剂量的工艺，可在电子束下方进行多次通过，以达到所需的累积剂量。为了确保电子辐照均匀性，处理过程中还可分步对衬底两面进行处理。这种灵活性保证了材料改性的最佳效果和可重复性。
我们的服务
我们为您提供电子辐照工艺的开发与技术支持——从研发到批量生产。
- 研究与工艺开发：我们将与您共同确定适用于您材料的最佳电子束参数。
- 中试：在实际生产条件下进行测试，以验证可行性。
- 工艺验证：我们确保电子束辐照工艺的可重复性和产品质量。
- 批量生产：我们为您将最优工艺转化为批量生产。
其他服务
- 加急服务：针对紧急订单，我们提供加急处理服务。
- 工艺咨询：我们将协助您确定剂量和工艺，为您量身定制解决方案。
技术参数：采用10 MeV的固定单能辐射，由于所需剂量在很大程度上取决于您的具体材料和应用场景，我们将在个性化报价中确定这些参数，这确保您获得的服务能精准契合您的需求。
我们的独特卖点与优势
借助我们的专业技术以及让我们在竞争中脱颖而出的显著优势，我们不仅提供最先进的电子束技术，还可根据您的具体需求提供量身定制的服务。
- 先进技术：我们采用10 MeV的电子束辐照技术，即使面对要求严苛的衬底也能实现精准的材料改性，并能灵活应对各类项目需求。
- 高效且高通量处理：通过批量（堆叠）模式处理晶圆，我们实现了极高的吞吐量，使工艺既经济又高效。
- 质量：我们的工艺确保电子束辐照的每个阶段都符合最高质量标准。
- 专家咨询：我们的团队将协助您确定针对特定材料和应用的最佳工艺参数，提供超越标准流程的定制化解决方案。
通过专家咨询实现有针对性的流程优化
电子束辐照技术能够精确调节材料的多种物理性能。为了充分挖掘该技术的潜力，我们经验丰富的团队随时为您提供服务。我们提供针对性的工艺咨询，分析您的具体需求，为您确定最优的材料改性方案。
借助我们在电子束技术领域的专业知识和多年经验，为您量身定制解决方案，以优化您的产品并提升生产效率。
您的联系人
Dr. Roman Böttger
Chief Operating Officer
Tel.: +49 351 260 2873
Prof. Dr. Thoralf Gebel
Sales Consultant Ion Technology
Tel.: +49 176 207 45597