Ionenstrahl-Service

Ionenimplantation

Die HZDR Innovation GmbH nutzt Ionenstrahlen des Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf im Energiebereich von einigen hundert eV bis über 50 MeV für die Ionenimplantation.

Typische Anwendungsgebiete der Hochenergie-Ionenimplantation sind

  • Implantation leichter Ionen (H, He) in Halbleiterbauelemente der Leistungselektronik (Leistungsdioden, Thyristoren, IGBTs oder Power- MOSFETs) zur Verbesserung des Schaltverhaltens und zur signifikanten Verringerung der Verlustleistung (lifetime engineering)
  • Implantation dotierender Elemente (H, B, P, As etc.) zur tiefen Dotierung von Bauelementen